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2024年11月8日，我校物理与光电工程学院05级校友、国家级青年人才、西北工业大学曹腾飞教授应邀来校开展学术交流，并为我校师生作题为《HfO₂薄膜中电荷稳定的铁电相和MnBi₂Te₄中层间电极化调控的磁基态与拓扑输运特性》学术报告。

报告中，曹腾飞介绍了超薄HfO₂材料与现有硅基工艺的良好兼容性及其调控材料磁序、拓扑序以及输运性质等性能的优势。针对HfO₂铁电相的亚稳态性限制其大规模合成与器件应用的问题，曹腾飞介绍了通过HfO₂基体中的额外电荷分布调控HfO₂电极化相和非极性相相对稳定性的方法，并分析了其内在的物理机理。此外，他还分享了通过范德华组装或异质结构建在非极性材料中诱导出电极化，以及电极化调控不同层数磁性拓扑薄膜的磁序、拓扑序以及相关运输性质的方法。报告结束后，曹腾飞教授就报告中的相关专业问题与参会师生进行了深入的讨论和交流。

我校物理与光电工程学院师生参加了此次交流活动。（物理与光电工程学院 供稿）